一、鋁合金硬質(zhì)氧化的優(yōu)勢：  1、鋁合金硬質(zhì)氧化后表面硬度最高可達(dá)HV500左右。 2、氧化膜厚度25-250um。  3、附著力強(qiáng)，根據(jù)硬質(zhì)氧化所生成的氧化特點(diǎn)：所生成的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面（雙向生長）。 4、絕緣性好：擊穿電壓可達(dá)2000V（完善的封孔）。  5、耐磨性能好：對于含銅量未超過2%的鋁合金其最大的磨耗指數(shù)為3.5mg/1000轉(zhuǎn)。其他所有的合金磨耗指數(shù)不應(yīng)超過1.5mg/1000轉(zhuǎn)。  6、無毒：氧化膜和用來生產(chǎn)陽極氧化膜的電化學(xué)工藝應(yīng)對人體無害。  因此很多行業(yè)為了減輕產(chǎn)品的重量、機(jī)械加工的方便、環(huán)保低毒等要求，目前有的部分產(chǎn)品中的部份零部件由鋁合金硬質(zhì)氧化來代替不銹鋼、電鍍硬鉻等工藝。 二、硬質(zhì)陽極氧化和普通陽極氧化的區(qū)別：  硬質(zhì)氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面，因此硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸變大，內(nèi)孔變小。 

（一）操作條件方面的差異：  1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質(zhì)越高。 2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。  3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時高達(dá)120V。 

（二）膜層性能方面的差異：  1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較??；硬質(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過低達(dá)不到硬度≥300HV的要求。  2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。  3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。 4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。  5、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。這些是我們平常用的較多的性能方面的比較，還有其他許多方面的差異。想看見更多關(guān)于鋁硬質(zhì)氧化的知識歡迎咨詢鋁硬質(zhì)氧化。